沉积掩模
公开
摘要
本发明提供了沉积掩模。该沉积掩模包括主体部分、穿透主体部分并且被配置为允许沉积材料穿过主体部分的图案部分、设置在主体部分上的阻挡部分以及设置在主体部分上并且与阻挡部分相邻的支撑部分。阻挡部分与显示基板接触，阻挡沉积材料并且限定图案部分。支撑部分与显示基板接触。
基本信息
专利标题 ：
沉积掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114628584A
申请号 ：
CN202111503837.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金谞延李胤抒金相勋朴钟圣
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
康泉
优先权 ：
CN202111503837.4
主分类号 ：
H01L51/00
IPC分类号 ：
H01L51/00 H01L51/56
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
