掩模
公开
摘要
掩模包括彼此重叠的基板和电致变色层。电致变色层包括电致变色材料。
基本信息
专利标题 ：
掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578649A
申请号 ：
CN202111453609.0
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴炯奎
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
袁媛
优先权 ：
CN202111453609.0
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G02F1/155 G02F1/153 G02F1/1514 H01L27/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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