用于改进光学邻近校正的方法
专利权的终止
摘要
本发明描述了一种用于实施基于模型的光学邻近校正(MBOPC)的方法和一种用于实施MBOPC的系统，其中所述工艺模型被分解为常数工艺模型项和图形依赖部分。通过所述常数工艺模型项修改预期的晶片目标以形成在MBOPC工艺中用作新目标的模拟目标。模型的图形依赖部分被用作MBOPC算法中的工艺模型。从而获得了导致跨芯片线宽变化得到改善的最终掩模设计，和更鲁棒的MBOPC工艺。
基本信息
专利标题 ：
用于改进光学邻近校正的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1804848A
申请号 ：
CN200510117559.3
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2005-11-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
崔玉萍S·M·曼斯费尔德
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
于静
优先权 ：
CN200510117559.3
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50 G03F1/00
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法律状态
2017-12-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G06F 17/50
申请日 : 20051104
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20161104
申请日 : 20051104
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20161104
2009-03-04 ：
授权
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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