一种光学邻近修正方法

授权

摘要

本发明提供一种光学邻近修正方法，包括：提供原始图案，所述原始图案包括多个线条图案；在所述原始图案中的至少部分所述线条图案的端部之内放置参考图案；对所述原始图案进行尺寸调整，以获得测试图案，其中，所述测试图案为在所述尺寸调整后所述参考图案仍然位于其所在的线条图案内的图案。由此通过参考图案的设置形成的测试图案的包容性更好，测试图形包容了更多的图形的情况，进而使得一些未被常规的测试图案所包容的图形区域也能得到有效的修正方案，提高了修正的精度。

基本信息

专利标题：

一种光学邻近修正方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN109709761A

申请号：

CN201711015392.9

公开（公告）日：

2019-05-03

申请日：

2017-10-25

授权号：

CN109709761B

授权日：

2022-06-03

发明人：

倪昶

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区张江路18号

代理机构：

北京市磐华律师事务所

代理人：

翟海青

优先权：

CN201711015392.9

主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

G03F1/36 G03F7/20