本发明提供了一种曲线图形光学邻近修正方法，在对导入的原始设计图形进行光学邻近修正后，对曲线图形进行填充拟合处理以形成标准图形；所述填充拟合处理的步骤包括：在包含所述曲线图形的边线的设定区域内排布标准填充图形的阵列；将与所述曲线图形相交的所述标准填充图形作为填充拟合图形，所述填充拟合图形具有与所述曲线图形重叠的重叠部分以及与所述曲线图形不重叠的非重叠部分；通过使所述曲线图形合并所述非重叠部分或去除所述重叠部分，形成所述标准图形。本发明通过对硅光器件的曲线图形进行填充拟合处理，以形成标准图形，使版图图形符合常规光掩模版标准，在确保光学邻近修正结果接近原始图形的同时，降低光掩膜版生产成本。