光学邻近校正法、光学邻近校正光掩模及导线结构

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种光学邻近校正法，首先提供一光掩模图案，其包括多个以端对端方式配置的线状图案。接着，进行一初步校正，于各线形图案二端各附加一末端图案。然后，进行一微调校正，以修正各线形图案及末端图案。其中，末端图案为一不对称图案，且相邻两线状图案间的相邻二末端图案是以镜像对称或点对称的方式排列。

基本信息

专利标题：

光学邻近校正法、光学邻近校正光掩模及导线结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101004550A

申请号：

CN200610005060.8

公开（公告）日：

2007-07-25

申请日：

2006-01-17

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

林金隆黄允圣庄宏亲李潜福

申请人：

联华电子股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹科学工业园区

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

陶凤波

优先权：

CN200610005060.8

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00 G03F1/00 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

法律状态

2010-07-21 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003336341
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利申请号 : 2006100050608
公开日 : 20070725

2007-09-19 ：

实质审查的生效

2007-07-25 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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