光学邻近校正光掩模及彩色滤光片的制造方法
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摘要
一种光学邻近校正光掩模，适用于制作一彩色滤光片，包括基板、光掩模图案及修补图案。其中，光掩模图案配置于基板上，光掩模图案与转移至彩色滤光片的一转移图案不匹配，使得彩色滤光片具有漏光区域。修补图案配置于基板上的光掩模图案的周边，与漏光区域的位置相对应。
基本信息
专利标题 ：
光学邻近校正光掩模及彩色滤光片的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1936702A
申请号 ：
CN200510103767.8
公开（公告）日 ：
2007-03-28
申请日 ：
2005-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴心平林家辉
申请人 ：
联华电子股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省新竹科学工业园区
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510103767.8
主分类号 ：
G03F1/14
IPC分类号 ：
G03F1/14 G02B5/23 G02F1/1335
相关图片
法律状态
2009-12-16 ：
授权
2007-05-23 ：
实质审查的生效
2007-03-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN100570479C.PDF
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2、
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