新型掩模板、及彩色滤光片的制备系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种新型掩模板，用于制备彩色滤光片，所述彩色滤光片包括基板，BM层，以及RGB膜层；所述掩模板包括遮光区域和透光区域，所述透光区域包括第一透光区域和第二透光区域，所述第一透光区域的光透率大于所述第二透光区域的光透率；所述第一透光区域与RGB膜层的中间部分相对应，所述第二透光区域与RGB膜层的边缘部分相对应。本实用新型还公开了一种彩色滤光片的制备系统。本申请提出一种新型掩膜版，通过将与RGB膜层的边缘部分对应的掩模板相应区域采用较低光透率（光线透过率）的设计，可以降低曝光时该区域的RGB膜层厚度。在不改变其他工艺条件的情况下，有效降低了RGB膜层的段差，提高了平坦度，同时降低了OC层胶的损耗，节约了成本。

基本信息

专利标题：

新型掩模板、及彩色滤光片的制备系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020095286.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-01-16

授权号：

CN211698582U

授权日：

2020-10-16

发明人：

兰沈凯吴杰明李岩

申请人：

信利（仁寿）高端显示科技有限公司

申请人地址：

四川省眉山市仁寿县文林工业园区

代理机构：

广州粤高专利商标代理有限公司

代理人：

刘爱珍

优先权：

CN202020095286.7

主分类号：

G03F1/54

IPC分类号：

G03F1/54 G02B5/20