用于校验光刻中的分辨率增强技术和光学邻近校正的方法
专利权的终止
摘要
一种基于模型地校验光刻中的分辨率增强技术(RET)和光学邻近校正(OPC)的方法，所述方法包括：将绘制的掩模布局的形状按比例缩放到其相应的预定晶片尺寸，以生成比例图像。根据预定的最大覆盖误差，相对于所述比例图像的第二特征偏移其第一特征。计算所述比例图像的所述第一和所述第二特征的交叉参数，从而确定理想布局的产量量度。根据所述预定的最大覆盖误差，相对于所述模拟晶片图像的第二特征偏移其第一特征。计算所述模拟晶片图像的所述第一和所述第二特征的交叉参数，从而确定模拟布局的产量量度，以及比较所述模拟晶片图像的所述产量量度与所述比例图像的所述产量量度。
基本信息
专利标题 ：
用于校验光刻中的分辨率增强技术和光学邻近校正的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1776695A
申请号 ：
CN200510114979.6
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-11-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
L·W·利布曼I·C·格劳尔J·A·卡尔普M·慕克尔吉
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
于静
优先权 ：
CN200510114979.6
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50 G03F1/00
法律状态
2017-01-04 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101696002649
IPC(主分类) : G06F 17/50
专利号 : ZL2005101149796
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20080625
终止日期 : 20151116
号牌文件序号 : 101696002649
IPC(主分类) : G06F 17/50
专利号 : ZL2005101149796
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20080625
终止日期 : 20151116
2008-06-25 ：
授权
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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