用于分辨率增强技术操作的任务的高效调度
公开
摘要
公开了用于调度对布局设计进行的光学邻近校正(OPC)操作或其他分辨率增强技术(RET)操作的系统和方法。布局设计被分成多个区域，例如多个图块。对所述多个图块执行OPC以生成经修改的布局设计。对多个图块执行OPC将是耗时的。为了更有效地分配OPC的处理，对用于多个图块的OPC处理时间进行估算。对用于相应图块的OPC处理时间的估算可以基于以下分析中的一者或两者：对相应图块的分析；或者对邻近相应图块的一个或多个图块的分析。基于该估算，具有较长的估算处理时间的图块是在具有较短的估算处理时间的图块之前被调度的，由此可能导致更有效的OPC处理。
基本信息
专利标题 ：
用于分辨率增强技术操作的任务的高效调度
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114631058A
申请号 ：
CN201980101589.5
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2019-08-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S·A·金H·T·乌
申请人 ：
西门子工业软件有限公司
申请人地址 ：
美国德克萨斯州
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
景怀宇
优先权 ：
CN201980101589.5
主分类号 ：
G03F1/36
IPC分类号 ：
G03F1/36 G06F30/398
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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