修正光学近距效应的图形分割方法
授权
摘要
本发明公开了一种修正光学近距效应的图形分割方法，包括：a.确定禁止间距的范围；b.在图形对角线的交叉区域布置亚衍射极限辅助散射条。本发明有利于提高图形分辨率和焦深(DOF)，并降低掩膜误差放大因子(MEEF)使得光学近距效应得到较好的修正。
基本信息
专利标题 ：
修正光学近距效应的图形分割方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101042528A
申请号 ：
CN200610024872.7
公开（公告）日 ：
2007-09-26
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
洪齐元刘庆炜
申请人 ：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请人地址 ：
201203上海市浦东新区张江路18号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
逯长明
优先权 ：
CN200610024872.7
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F1/00 H01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2012-05-23 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2007-09-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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