分割窗孔图形布图的方法
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
使用离子束的微图印刷技术来制作半导体芯片，必须使用自持式掩模，不能用一个掩模制作例如环形结构图形。这种所谓掩模型版问题通过用两个互补掩模给芯片曝光来解决。本申请涉及一种自动地将一个布图分割成两个互补图形用了所说的两个掩模的方法。此方法确定出所述布图的延伸入所说掩模的窗孔表示区域的所有角。对所说的角执行一稳定性标准，其结果是仅不稳定的角被用以将所说的窗孔表示区域切割为许多区。其后将所说的许多区交替地配置到所说的两个图形上。
基本信息
专利标题 ：
分割窗孔图形布图的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1054839A
申请号 ：
CN90109697.0
公开（公告）日 ：
1991-09-25
申请日 ：
1990-12-05
授权号 ：
CN1041665C
授权日 ：
1999-01-13
发明人 ：
赫尔姆特
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
杜日新
优先权 ：
CN90109697.0
主分类号 ：
H01L21/02
IPC分类号 ：
H01L21/02 G03F1/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2010-02-03 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
1999-01-13 ：
授权
1991-09-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
