本发明涉及一种集成电路的布图方法及布图装置。所述集成电路的布图方法包括如下步骤：提供一版图，所述版图包括第一元件区域和第二元件区域，所述第一元件区域与所述第二元件区域之间具有一间隔区域；检测所述间隔区域的宽度是否小于预设宽度，若是，则对所述第一元件区域、所述第二元件区域和所述间隔区域中的至少一个进行标注，所述预设宽度是指满足要求的最小宽度，所述要求为在所述间隔区域填充至少一个虚拟图案。本发明能够快速、准确的定位版图中摆放位置不佳的元件区域，提高了集成电路布图效率，改善了布图精准性，为改善光刻质量、缩短集成电路开发周期、提高半导体产品的产率等奠定了基础。