交替相移光刻的三色调修整掩模
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种光刻修整掩模(10)包括透明区域(30)、衰减相移区域(32)和不透明区域(34)。所述透明区域基本透射所接收的光。所述衰减相移区域衰减并移动所接收光的相位。经相移的衰减光图案化晶片的粗线区域。所述不透明区域基本防止所接收的光对晶片的细线区域进行曝光。
基本信息
专利标题 ：
交替相移光刻的三色调修整掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101443702A
申请号 ：
CN200580047551.2
公开（公告）日 ：
2009-05-27
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·J·阿托恩
申请人 ：
德克萨斯仪器股份有限公司
申请人地址 ：
美国德克萨斯州
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵蓉民
优先权 ：
CN200580047551.2
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03C5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2011-06-01 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101096088940
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2005800475512
公开日 : 20090527
号牌文件序号 : 101096088940
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2005800475512
公开日 : 20090527
2009-07-22 ：
实质审查的生效
2009-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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