提供通过不同相移孔径的平衡光强度的相移掩模及形成这种相移...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种光掩模可包括图案形成层、邻近图案形成层的相移层、第一孔径、第二孔径和光吸收层。第一孔径可允许光穿过图案形成层和相移层，并提供第一相移。第二孔径可允许光穿过图案形成层和相移层，并提供不同于第一相移的第二相移。光吸收层可以邻近第一孔径设置，并可包括光吸收材料，光吸收材料降低了穿过第一孔径的光强度，使得穿过第一孔径的光强度基本上等于穿过第二孔径的光强度。
基本信息
专利标题 ：
提供通过不同相移孔径的平衡光强度的相移掩模及形成这种相移掩模的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101065647A
申请号 ：
CN200580040126.0
公开（公告）日 ：
2007-10-31
申请日 ：
2005-09-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
G·陈F·D·卡尔克
申请人 ：
凸版光掩膜公司
申请人地址 ：
美国德克萨斯州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
曾祥夌
优先权 ：
CN200580040126.0
主分类号 ：
G01F9/00
IPC分类号 ：
G01F9/00 G03F9/00 G03C5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01F
容积、流量、质量流量或液位的测量；按容积进行测量
G01F9/00
测量相对于另一变量的流量，例如，发动机用的液体燃料的流量
法律状态
2009-12-30 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-12-26 ：
实质审查的生效
2007-10-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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