差分交替相移掩模优化

专利申请权、专利权的转移

摘要

一种掩模设计方法，包括：通过将掩模分辨率增强技术(RET)特征例如交替相移区或者次分辨率辅助特征与集成电路设计的临界宽度段对准，形成第一掩模设计，所述第一掩模设计满足可制造性设计标准；通过将RET特征与集成电路设计的临界宽度段对准，形成第二掩模设计，所述第二掩模设计满足所述临界宽度段的局部区域的光刻设计标准。识别第二掩模设计的与可制造性设计标准冲突的特征，然后从所述第二掩模设计形成第三掩模设计，其中用所述第一掩模设计的特征选择性地替换所述第二掩模设计的与可制造性标准冲突的特征，从而所述第三掩模设计满足可制造性设计标准。

基本信息

专利标题：

差分交替相移掩模优化

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101213547A

申请号：

CN200680002862.1

公开（公告）日：

2008-07-02

申请日：

2006-01-20

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

L·W·利伯曼Z·鲍姆恩

申请人：

国际商业机器公司

申请人地址：

美国纽约

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

于静

优先权：

CN200680002862.1

主分类号：

G06F17/50

IPC分类号：

G06F17/50