本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及掩模优化方法、掩模优化装置及电子设备，该方法包括步骤：提供包括多个待优化曝光图形的初始掩模版图；基于建立的仿真光刻模型计算获得与每个待优化曝光图形对应的亚分辨率辅助图形；基于一预设范围，获取一待优化曝光图形的所有亚分辨率辅助图形并关联，获得关联的每个亚分辨率辅助图形的尺寸信息和距离信息；基于设定的分类规则对这些信息分析以将多个待优化曝光图形分类并基于这些信息计算以获得关于该类型下的待优化曝光图形的亚分辨率辅助图形的设置规则；基于设置规则对同类型的其它待优化掩模进行优化，本发明提供的技术方案具有工艺窗口宽、优化掩模的速度快以及优化效果好的特点。