一种用于全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选的掩模图形频谱...
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摘要

一种用于全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选的掩模图形频谱包络分割方法。所述方法通过寻找频谱强度值矩阵的8邻域极大值点作为包络顶点,针对每个极大值点采用设计的包络生长法寻找属于当前包络的点以及包络的边界点。本发明设计的包络生长法通过搜寻当前包络点的4邻域来找到属于当前包络的新的点以及包络的边界点,从而实现包络的生长。本发明可以准确地对频谱包络进行分割,更准确地提取图形频谱的包络信息,使得最终的关键图形筛选结果准确。

基本信息
专利标题 :
一种用于全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选的掩模图形频谱包络分割方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111415362A
申请号 :
CN202010412950.0
公开(公告)日 :
2020-07-14
申请日 :
2020-05-15
授权号 :
CN111415362B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
廖陆峰李思坤王向朝
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 :
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张宁展
优先权 :
CN202010412950.0
主分类号 :
G06T7/11
IPC分类号 :
G06T7/11  G06T7/181  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T5/00
图像的增强或复原
G06T5/50
通过使用多于一幅图像的,例如平均、减少
G06T7/11
区域分割
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-08-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/11
申请日 : 20200515
2020-07-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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