一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及...
公开
摘要
本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备，该方法包括步骤：提供一个或者多个初始掩模图形的初始掩模版图，基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；选出待修正掩模图形，提供关于每个待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出修正后的掩模版图，通过该方法修正初始掩模图形速度快，准确找到待修正的待修正掩模图形，修正后获得的掩模版图具有较宽的工艺窗口。
基本信息
专利标题 ：
一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488683A
申请号 ：
CN202210035463.6
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王航宇
申请人 ：
深圳晶源信息技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉道8号英达利科技数码园C栋401A
代理机构 ：
深圳市智享知识产权代理有限公司
代理人 ：
罗芬梅
优先权 ：
CN202210035463.6
主分类号 ：
G03F1/72
IPC分类号 ：
G03F1/72 G03F1/76
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/72
掩膜缺陷的修复或校正
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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