光抗蚀剂组合物及应用该组合物产生图形的方法
专利申请的视为撤回
摘要
本发明涉及含有结构A的酚醛清漆基树脂和结构B的聚乙烯基酚基树脂的光抗蚀剂组合物，和使用该光抗蚀剂组合物产生图形的方法，由此获得具有很好轮廓和尺寸为0.25μm的图形和满意地保持图形尺寸间的线性。
基本信息
专利标题 ：
光抗蚀剂组合物及应用该组合物产生图形的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1083938A
申请号 ：
CN93117375.2
公开（公告）日 ：
1994-03-16
申请日 ：
1993-09-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴春根李重泫韩宇声
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
隗永良
优先权 ：
CN93117375.2
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 H01L21/312
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
1999-02-10 ：
专利申请的视为撤回
1996-01-10 ：
实质审查请求的生效
1994-03-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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