掩模、制造掩模的方法以及制造显示面板的方法
公开
摘要
公开了掩模、制造掩模的方法以及制造显示面板的方法。所述制造掩模的方法包括：形成第一掩模层，在第一掩模层上形成第二掩模层，在第二掩模层上形成光致抗蚀剂图案层，去除第二掩模层的通过光致抗蚀剂图案层暴露的第一区域，限定通过第一掩模层的开口，去除光致抗蚀剂图案层的部分以暴露第二掩模层的第二区域的部分，以及去除第二掩模层的第二区域的部分。
基本信息
专利标题 ：
掩模、制造掩模的方法以及制造显示面板的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114545728A
申请号 ：
CN202111344806.9
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐甲锺高敏硕全保建
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘美华
优先权 ：
CN202111344806.9
主分类号 ：
G03F1/56
IPC分类号 ：
G03F1/56 G03F1/76 G03F1/80 H01L27/32 H01L51/56
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/54
吸收剂，例如不透明材料
G03F1/56
有机吸收剂，例如光致抗蚀剂
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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