光刻掩模板清洁方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明公开了一种用于清洁TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)工业用大型光刻掩模板的方法,利用高压空气枪,辅助聚合物清洁棒和工业用棉棒的方法,并适时利用辅助试剂丙酮和纯水,达到有效清除光刻掩模板表面的微小异物颗粒和污渍的效果。本清洁方法适用于在工业用洁净室里现场进行操作,配合利用内置于曝光装置内部的灰尘检查装置,实时地监控掩模板表面的异物颗粒附着情况,有效及时防止由于光刻掩模板表面异物引起曝光图案转写后产生的产品共通缺陷。

基本信息
专利标题 :
光刻掩模板清洁方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1994589A
申请号 :
CN200510112252.4
公开(公告)日 :
2007-07-11
申请日 :
2005-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
谭智敏
申请人 :
上海广电NEC液晶显示器有限公司
申请人地址 :
201108上海市闵行区华宁路3388号
代理机构 :
上海智信专利代理有限公司
代理人 :
薛琦
优先权 :
CN200510112252.4
主分类号 :
B08B5/02
IPC分类号 :
B08B5/02  B08B7/04  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁,如吹清凹处
法律状态
2010-07-21 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003340324
IPC(主分类) : B08B 5/02
专利申请号 : 2005101122524
公开日 : 20070711
2008-08-13 :
实质审查的生效
2007-07-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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