灰色调掩模

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明的课题是提供一种灰色调掩模，具备用灰色调掩模形成的器件图形、和用另外的光掩模被形成为具有与该器件图形重叠的部分的与栅电极及接触孔等相关的准确的标记。本发明的灰色调掩模通过在透明基板上具有半透光膜图形、以及在透光部侧空出余量区域而形成在上述半透光膜图形上的遮光膜图形，由此具有：遮光膜图形与半透光膜图形层叠而成的遮光部，除遮光部以外的形成有半透光膜的半透光部，以及既未形成半透光膜又未形成遮光膜的透光部；其中：该灰色调掩模具有与上述半透光膜图形的形成同时形成的、曝光时的对位的标记图形。

基本信息

专利标题：

灰色调掩模

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101833236A

申请号：

CN201010189553.8

公开（公告）日：

2010-09-15

申请日：

2006-03-22

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

佐野道明

申请人：

HOYA株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

李辉

优先权：

CN201010189553.8

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00