掩模板

授权

摘要

本公开的实施例公开了一种掩模板。掩模板包括多个遮光条，多个遮光条布置成网格状。掩模板包括掩模板正常曝光区域；以及由掩模板的侧边缘构成的并且与掩模板正常曝光区域邻接的掩模板拼接曝光区域。在掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间具有分界线，多个遮光条包括位于掩模板拼接曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第一遮光条和位于掩模板正常曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第二遮光条，并且第一遮光条的宽度大于第二遮光条的宽度。采用根据本公开的实施例的掩模板，可以使基板拼接曝光区域的金属线的线宽与基板正常曝光区域的金属线的线宽更加一致。

基本信息

专利标题：

掩模板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922150725.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-04

授权号：

CN210573180U

授权日：

2020-05-19

发明人：

郑启涛许邹明张雷田健张贵玉刘纯建吴信涛陈彤

申请人：

京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

张成新

优先权：

CN201922150725.X

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00