聚合的四面体碳薄膜及其形成方法以及使用该薄膜形成精细图形...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供包括具有sp3碳主架的聚合物的聚合薄膜，sp3碳主架包括四面体中心原子。还提供了形成该聚合薄膜的方法、包括该聚合薄膜的硬掩膜以及使用该聚合薄膜形成精细图形的方法。
基本信息
专利标题 ：
聚合的四面体碳薄膜及其形成方法以及使用该薄膜形成精细图形的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1790161A
申请号 ：
CN200510125198.7
公开（公告）日 ：
2006-06-21
申请日 ：
2005-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
夏政焕姜律柳万馨李时镛禹相均
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
林宇清
优先权 ：
CN200510125198.7
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 H01L21/027 C08F38/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2010-08-25 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101006988192
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2005101251987
公开日 : 20060621
号牌文件序号 : 101006988192
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2005101251987
公开日 : 20060621
2007-12-26 ：
实质审查的生效
2006-06-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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