稀土前驱体、制备其的方法和使用其形成薄膜的方法
实质审查的生效
摘要
本申请涉及一种能够通过气相沉积实现薄膜沉积的化合物，更特别是涉及一种适用于原子层沉积(ALD)或化学气相沉积(CVD)并且具有优异的热稳定性和反应性的稀土化合物、包括其的稀土前驱体、制备其的方法以及使用其形成薄膜的方法。
基本信息
专利标题 ：
稀土前驱体、制备其的方法和使用其形成薄膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114539295A
申请号 ：
CN202111323145.1
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴美罗廉圭玄李炫炅昔壮衒朴正佑
申请人 ：
韩松化学株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵桂芳
优先权 ：
CN202111323145.1
主分类号 ：
C07F5/00
IPC分类号 ：
C07F5/00 C07F7/10 C23C16/40 C23C16/455 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F5/00
含周期表第3或13族元素的化合物
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07F 5/00
申请日 : 20211109
申请日 : 20211109
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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