用于无掩模光刻的多色调方案
实质审查的生效
摘要
本文描述的示例提供了一种用于在单程中写入多个色调的光刻工艺的系统、软件应用和方法。一种系统包括工作台和光刻系统。所述光刻系统包括图像投影系统、控制器和存储器。所述控制器耦接到所述存储器,所述存储器存储指令代码。所述控制器对所述指令代码的执行致使所述控制器控制所述工作台和所述图像投影系统以迭代地曝光由所述工作台支撑的光刻胶和使所述工作台在顺序对的所述曝光之间相对于所述图像投影系统移动步距。每次曝光包括使用从所述图像投影系统投射的写入束。每次曝光是以不同剂量中的相应一者。所述不同剂量的累积是用于所述光刻胶的全色调剂量。
基本信息
专利标题 :
用于无掩模光刻的多色调方案
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114556220A
申请号 :
CN202080069582.2
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-08-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
克里斯多弗·丹尼斯·本彻托马斯·L·拉伊迪约瑟夫·R·约翰逊
申请人 :
应用材料公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 :
徐金国
优先权 :
CN202080069582.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200819
申请日 : 20200819
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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