半色调掩模及制造方法和采用该掩模制造显示器件的方法
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摘要
本发明公开了一种半色调掩模，该掩模包括：局部形成于透明衬底上的遮光图案；局部形成于透明衬底上的第一半色调透光图案；形成于第一半色调透光层上的第二半色调透光图案。
基本信息
专利标题 ：
半色调掩模及制造方法和采用该掩模制造显示器件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1869809A
申请号 ：
CN200510132875.8
公开（公告）日 ：
2006-11-29
申请日 ：
2005-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李志瑙
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200510132875.8
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F7/00 G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2010-09-01 ：
授权
2007-01-24 ：
实质审查的生效
2006-11-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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