光掩模坯料、光掩模及其制造方法
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摘要
本发明在光学透明的基板11的一侧主表面上设置遮光性膜12，上述遮光性膜12由第1遮光性膜13和第2遮光性膜14依次叠层而构成。第1遮光性膜13为在氟系(F类)干式蚀刻中不被实质蚀刻的膜，是主成分为铬的氧化物、氮化物、氧氮化物等的膜。而且，第2遮光性膜14是以可被F类干式蚀刻的含硅化合物为主成分的、硅或硅和过渡金属的氧化物、氮化物或氧氮化物等的膜。
基本信息
专利标题 ：
光掩模坯料、光掩模及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1763632A
申请号 ：
CN200510112619.2
公开（公告）日 ：
2006-04-26
申请日 ：
2005-10-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吉川博树稻月判臣木名濑良纪冈崎智原口崇岩片政秀福岛祐一
申请人 ：
信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
杨宏军
优先权 ：
CN200510112619.2
主分类号 ：
G03F1/08
IPC分类号 ：
G03F1/08 G03F1/14 H01L21/027
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法律状态
2011-02-16 ：
授权
2007-06-27 ：
实质审查的生效
2006-04-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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