一种真空气相沉积设备的沉积反应室
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种真空气相沉积设备的沉积反应室,包括沉积室、机罩、驱动电机、温度检测器和滚轮,所述沉积室内部的底端固定有机罩,且机罩内部的中心位置处安装有驱动电机,所述机罩外侧的沉积室内壁上安装有环形支台,所述旋转支盘底端的中心位置处安装有转轴,所述旋转支盘上方的沉积室内侧壁上设置有圆置槽,所述沉积室顶端的内侧壁上安装有喷洒盘,喷洒盘的底部设置有等间距的电动喷头,所述电动喷头外侧的喷洒盘底端焊接有涡旋导流罩,所述沉积室一侧的外壁上安装有控制面板。本实用新型不仅实现了沉积反应室沉积过程中的集聚功能,实现了沉积反应室喷洒时的涡旋诱导功能,而且改善了沉积反应室的沉积环境。

基本信息
专利标题 :
一种真空气相沉积设备的沉积反应室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920504812.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-15
授权号 :
CN209722296U
授权日 :
2019-12-03
发明人 :
江成龙
申请人 :
玛奇纳米科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市常熟虞山高新技术产业园苏州路40号1幢
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920504812.8
主分类号 :
C23C16/44
IPC分类号 :
C23C16/44  C23C16/455  C23C16/52  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-03-29 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20190415
授权公告日 : 20191203
终止日期 : 20210415
2019-12-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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