用于化学气相沉积反应的供气系统
专利申请权、专利权的转移
摘要

本申请提供了一种用于化学气相沉积反应的供气系统,该供气系统包括:液态源储存设备,用于存储液态源;汽化设备,与液态源储存设备可切断地连通,汽化设备用于对液态源汽化;气体存储设备,与汽化设备可切断地连通,气体存储设备用于储存汽化设备汽化形成的气体;化学气相沉积反应设备,与气体存储设备连通。该系统将汽化形成的气体先储存在气体存储设备中,这样当气体存储设备中的气体达到预定的压力后,再向化学气相沉积反应设备供气,避免了供气过程受到汽化过程的影响,从而提高了气体供应的稳定性,解决了现有技术中的供气方式供气不稳定的问题。

基本信息
专利标题 :
用于化学气相沉积反应的供气系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920971911.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-25
授权号 :
CN210458362U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
张少雷屈丰超王世举杨文涛
申请人 :
东泰高科装备科技有限公司
申请人地址 :
北京市昌平区科技园区中兴路10号A129-1室
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
董文倩
优先权 :
CN201920971911.7
主分类号 :
C23C16/448
IPC分类号 :
C23C16/448  C23C16/455  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法,例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2021-02-12 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/448
登记生效日 : 20210202
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东泰高科装备科技有限公司
变更后权利人 : 紫石能源有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 102209 北京市昌平区科技园区中兴路10号A129-1室
变更后权利人 : 102208 北京市昌平区育知东路30号院1号楼6层3单元611
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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