常温双腔型气相沉积反应室
授权
摘要
本实用新型公开了常温双腔型气相沉积反应室，包括反应室主体，所述反应室主体的内端中心设有密封板，所述密封板的内端伸缩连接有调节装置，所述密封板的顶端位置固定连接有顶盖，所述调节装置包括调控部件、电动机、第一腔室、底板、套轴架、螺纹杆和第二腔室，所述底板设在调节装置的内端底部，所述底板的上端与调控部件相伸缩设置，所述调控部件的底部位置与螺纹杆相螺纹连接，所述螺纹杆的一侧与套轴架相固定设置，所述螺纹杆的另一侧与电动机相转动连接，所述调控部件的前端位置与第一腔室相连通，所述调控部件的后端位置与第二腔室相连通。本实用新型为常温双腔型气相沉积反应室，通过调节装置的设置，实现内端调节的目的。
基本信息
专利标题 ：
常温双腔型气相沉积反应室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021643614.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN212864936U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
浦招前
申请人 ：
苏州派华纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区渭塘镇钻石路2008号5号楼3层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021643614.9
主分类号 ：
C23C14/00
IPC分类号 ：
C23C14/00 C23C16/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
