一种化学气相沉积反应器
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摘要
本实用新型属于无机非金属材料制备技术领域，尤其为一种化学气相沉积反应器，包括装置本体，装置本体的内部设置有滑移底板，滑移底板的上表面固定设置有反应槽，反应槽上设置有若干组夹持机构，装置本体的两端内壁均焊接固定有滑轨，滑轨与滑移底板之间设置有滚动轮，滑移底板通过滑轨与装置本体连接，滑移底板一侧的远离反应槽的一端设置有密封门，本实用新型能够通过两个夹持块的配合对装置本体内的衬底工件进行夹持悬空放置，便于工件底面能偶更好的附着薄膜，并能够在底面反应附着完成后通过拉动第二把手，使夹持块松开，便于工件的侧面继续反应，这样能够使工件的附膜效果均匀，没有死角。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积反应器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921007733.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-01
授权号 ：
CN210438836U
授权日 ：
2020-05-01
发明人 ：
胡晓炜蒋宗法胡晓阳
申请人 ：
临沂大学
申请人地址 ：
山东省临沂市兰山区双岭路中段
代理机构 ：
北京彭丽芳知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭丽芳
优先权 ：
CN201921007733.2
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/455 C23C16/48
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2020-05-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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