具有多个进口的化学气相沉积反应器

专利权的终止

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摘要

一种化学气相沉积反应器，具有晶片载体和多个注射器，该晶片载体与反应器室相配合，以促进室内反应气体的层流，而该多个注射器构造在流动可控环带中，以便减轻损耗。每个环带可以选择性具有专用的流动控制器。因此，通过每个环带的流动可以分别可控。

基本信息

专利标题：

具有多个进口的化学气相沉积反应器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101495675A

申请号：

CN200680013708.4

公开（公告）日：

2009-07-29

申请日：

2006-02-15

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

刘恒

申请人：

布里奇勒克斯股份有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

陶凤波

优先权：

CN200680013708.4

主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/455 H01L21/3065 B05C3/00

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C16/00

通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺

C23C16/44

以镀覆方法为特征的

C23C16/455

向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法

法律状态

2018-03-06 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20060215
授权公告日 : 20121107
终止日期 : 20170215

2014-07-02 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101702405972
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2006800137084
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东芝技术中心有限公司
变更后权利人 : 株式会社东芝
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本神奈川
变更后权利人 : 日本东京
登记生效日 : 20140609

2014-01-08 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101685114466
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2006800137084
变更事项 : 专利权人
变更前 : 东芝技术中心有限公司
变更后 : 东芝技术中心有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京
变更后 : 日本神奈川

2013-07-31 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101643247067
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2006800137084
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 布里奇勒克斯股份有限公司
变更后权利人 : 东芝技术中心有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国加利福尼亚州
变更后权利人 : 日本东京
登记生效日 : 20130710

2012-11-07 ：

授权

2009-09-23 ：

实质审查的生效

2009-07-29 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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2、

CN101495675A.PDF

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