化学气相沉积系统及其局域供气装置
授权
摘要
本实用新型提出一种化学气相沉积系统及其局域供气装置，局域供气装置设置于化学气相沉积系统的腔室上。其中，局域供气装置包含转向管、腔内连接组件、供气终端管路、腔外连接组件以及腔外气体管路。转向管穿设于腔室并具有转向结构、内管口和外管口，内管口和外管口分别位于腔室的内部和外部。腔内连接组件设置于内管口。供气终端管路设置于腔室的内部并通过腔内连接组件连接于内管口。腔外连接组件设置于外管口。腔外气体管路设置于腔室的外部并通过腔外连接组件连接于外管口。本实用新型利用可以在不影响正常全局供气构造的同时，在腔室中实现局域供气功能。
基本信息
专利标题 ：
化学气相沉积系统及其局域供气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020788756.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-13
授权号 ：
CN212247201U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
刘忠范李杨立志刘海洋孙禄钊王悦晨陈步航梁宇
申请人 ：
北京石墨烯研究院;北京大学
申请人地址 ：
北京市海淀区苏家坨镇翠湖南路13号院中关村翠湖科技园2号楼
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙宝海
优先权 ：
CN202020788756.8
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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