滤光片生产中用的掩膜
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种在滤光片生产中采用的带有许多孔的掩膜，它可以防止蒸涂的金属覆盖到基片的被切割部分而仅仅能覆盖到基片上为掩膜孔所暴露的部分。掩膜孔的边缘加工成薄的阶梯形，这样的结构能够消除所谓的遮蔽部分和避免掩膜的弯曲。
基本信息
专利标题 ：
滤光片生产中用的掩膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85104654A
申请号 ：
CN85104654.1
公开（公告）日 ：
1986-12-24
申请日 ：
1985-06-17
授权号 ：
CN85104654B
授权日 ：
1987-03-11
发明人 ：
山岸丰石田正彦
申请人 ：
株式会社堀场制作所
申请人地址 ：
日本京都府京都市
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王宪模
优先权 ：
CN85104654.1
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
1996-07-31 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1987-09-23 ：
授权
1987-03-11 ：
审定
1986-12-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
