一种掩模工艺中新型转盘装置
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摘要

一种掩模工艺中新型转盘装置,包括转环,转环的正下方设立有两个滑轨,转环外壁均匀转动连接有三个辅助立柱,转环与滑轨相对的侧壁固定连接有从动齿轮,从动齿轮的一侧啮合连接有驱动齿轮,转环内放置有掩模,转环内壁固定连接有橡胶垫,本实用新型具有以下优点:通过电机带动驱动齿轮转动,以此带动从动齿轮转动,从而带动转环转动,以此带动掩模转动,从而进行灵活的调节,提高画图的稳定性;为保证设备运行稳定,设立支撑滚珠、限位柱和活动槽,能够对转环进行限位,使转环转动的更加的稳定,避免产生偏差;通过滑轨能够带动转环移动,从而带动掩模移动,增加调节性能。

基本信息
专利标题 :
一种掩模工艺中新型转盘装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123439066.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
CN216718899U
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
华卫群尤春刘维维朱磊
申请人 :
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区菱湖大道202号
代理机构 :
无锡苏元专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
邓琪
优先权 :
CN202123439066.5
主分类号 :
G03F1/68
IPC分类号 :
G03F1/68  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
法律状态
2022-06-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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