一种掩模工艺用多层上料盒
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩模工艺用多层上料盒，包括掩模工艺用上料盒盒体，所述掩模工艺用上料盒盒体的前表面设置有盒体挡片，且所述掩模工艺用上料盒盒体的内侧分别开设有两个下掩膜版放置腔和两个上掩膜版放置腔，每个所述下掩膜版放置腔均位于上掩膜版放置腔的正下方。本实用新型在掩模工艺用上料盒盒体的内侧开设有两个下掩膜版放置腔和两个上掩膜版放置腔，不仅能放置两种不同型号的版，而且能够同时放置多片掩模版，简单实用，安全可靠。
基本信息
专利标题 ：
一种掩模工艺用多层上料盒
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922429003.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-29
授权号 ：
CN211577659U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
刘浩刘维维杨东海杨长华汪志得张月圆韦庆宇莫金圻薛文卿顾梦星
申请人 ：
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新区菱湖大道202号
代理机构 ：
连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
谷金颖
优先权 ：
CN201922429003.8
主分类号 ：
G03F1/68
IPC分类号 ：
G03F1/68 G03F1/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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