一种掩模工艺烘烤用托盘及夹具装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩模工艺烘烤用托盘及夹具装置，包括托盘和夹具，所述托盘的形状为方形，且托盘的四个侧面均开设有圆孔，所述托盘的内部为掩模版，所述夹具的前端设置有卡扣，且夹具的底部设置有导杆，该导杆的数量为两组，所述夹具的下端设置有把手，且把手通过连接件与卡扣固定连接；本实用新型所述的一种掩模工艺烘烤用托盘及夹具装置，通过将托盘与掩模版接触面积少，从而可以有效避免对掩模版造成影响，同时通过设置夹具，使得工作人员在取版过程中不会晃动，有效避免了工作人员因直接取版而有可能造成的烫伤情况，增加了安全系数，其结构简单实用，安全可靠，使用方便，具有良好的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种掩模工艺烘烤用托盘及夹具装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922361963.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-24
授权号 ：
CN211653390U
授权日 ：
2020-10-09
发明人 ：
朱磊顾梦星杨东海
申请人 ：
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新区菱湖大道202号
代理机构 ：
连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
谷金颖
优先权 ：
CN201922361963.5
主分类号 ：
G03F1/68
IPC分类号 ：
G03F1/68
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
法律状态
2020-10-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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