光掩模清洗设备
授权
摘要
本实用新型提供一种光掩模清洗设备，包含：分隔板、升降清洁模块及夹持模块，分隔板具有至少一个清洁口，升降清洁模块设置于分隔板的下方，升降清洁模块包括升降动力构件及卷布构件，升降动力构件动力连接卷布构件，驱动卷布构件的顶端通过清洁口，夹持模块设置于分隔板的上方，用以夹持待清洗物体。本实用新型的光掩模清洗设备解决了光掩模两侧清洗不易的问题。
基本信息
专利标题 ：
光掩模清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123232442.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
CN216622955U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
詹印丰罗铭模梁志诚杜林炘
申请人 ：
家登自动化股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新北市
代理机构 ：
北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
阴连根
优先权 ：
CN202123232442.3
主分类号 ：
G03F1/82
IPC分类号 ：
G03F1/82
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺，例如清洗
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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