光掩模及其制作方法和制作显示器件的方法
授权
摘要
本发明提供了光掩模及其制作方法和制作显示器件的方法。该光掩模包括：基板；图案化遮光层，所述图案化遮光层设置在所述基板的表面上；平坦化层，所述平坦化层与所述图案化遮光层位于所述基板的同一表面上，且覆盖所述图案化遮光层；以及准直结构，所述准直结构设置在所述平坦化层远离所述基板的表面上。该光掩模对光具有自准直功能，可适用于对光的准直度要求高的应用环境，进而可使得柔性显示器中的聚合物墙在制作时无需准直光源，使得聚合物墙的生产更加简便，且生产设备的集成化高，可显著降低柔性显示器中聚合物墙的生产成本。
基本信息
专利标题 ：
光掩模及其制作方法和制作显示器件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109407461A
申请号 ：
CN201811260306.5
公开（公告）日 ：
2019-03-01
申请日 ：
2018-10-26
授权号 ：
CN109407461B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
谢昌翰舒适
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵天月
优先权 ：
CN201811260306.5
主分类号 ：
G03F1/38
IPC分类号 ：
G03F1/38 G09F9/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2019-03-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/38
申请日 : 20181026
申请日 : 20181026
2019-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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