掩膜版承载装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种掩膜版承载装置，其包括收容掩膜版的主体、设于主体顶部的顶板及抓手，所述抓手通过固定结构固定于所述顶板上表面，所述固定结构包括固定销，所述抓手上设有通孔，所述顶板上设有安装孔，所述固定销的杆部自上而下穿过所述通孔与所述安装孔配合固定，所述固定销外周设有弹性密封圈，以在所述抓手与顶板之间进行密封，所述通孔上方设有收容所述固定销的头部的收容部，所述收容部侧边开设有排水槽，所述排水槽的底部与所述收容部的底部平齐。本实用新型的掩膜版承载装置通过在抓手与顶板之间设置弹性密封圈，以对顶板进行密封，进一步设置排水槽将进入收容部的水分排出，防止顶板上方的水分通过通孔及安装孔滴落到掩膜版上，防止掩膜版被污染。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版承载装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021743400.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
CN212873184U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
史延锋史延库
申请人 ：
苏州盟萤电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市周市镇康庄路148号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021743400.9
主分类号 ：
G03F1/66
IPC分类号 ：
G03F1/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/66
专门适用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制备
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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