一种用于承载掩膜板的载板
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于承载掩膜板的载板，包括板体，所述板体正面凹设有若干排容置腔组，每一排容置腔组均包括多个间隔设置的用于承载掩膜板的容置腔，每一所述容置腔均包括一凹槽及设于所述凹槽内并沿所述凹槽四周设置的棱台，所述棱台上表面不高出所述板体正面，所述棱台上凸设有用于与所述掩膜板上的连接孔配合的连接柱。本实用新型的用于承载掩膜板的载板可一次承载多个掩膜板，棱台上的连接柱与掩膜板的连接孔连接，使得掩膜板100可快速且精准的被放置于容置腔内，提高了沉积速度，利于工业批量化生产，提高效率，节省成本。且弹性块可在沉积完成后将容置腔内的掩膜板弹出，以便于取出掩膜板，进一步提高制作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于承载掩膜板的载板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021937649.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN213172536U
授权日 ：
2021-05-11
发明人 ：
张敏刘飞卢刚马昀锋杜娟
申请人 ：
黄河水电光伏产业技术有限公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司光伏产业技术分公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司
申请人地址 ：
青海省西宁市城东区昆仑东路20号
代理机构 ：
深圳市铭粤知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙伟峰
优先权 ：
CN202021937649.3
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C16/04 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-05-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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