一种双光子无掩膜曝光系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种双光子无掩膜曝光系统，其包括光源、扩束单元、照明单元、光学引擎阵列、基板和移动平台，光源用于光源输出可见光或近红外光的激光光束；扩束单元用于将入射到激光光束的光斑面积增大，以使经由照明单元入射到光学引擎阵列的入射面的激光光束；照明单元对入射的激光光束光斑的每一点的能量进行均匀处理，光学引擎阵列生成曝光所需的曝光图案，移动平台安装在稳定的平台上，用于移动所需曝光的基板，基板涂覆有光刻胶层，光学引擎阵列出射的曝光光束照射到光刻胶层上，将该曝光图案转换到基板上。本实用新型能够有效提高无掩膜曝光时候图像的分辨率，能够高效快速地大面积曝光，从而提高生产效率与生产质量。

基本信息

专利标题：

一种双光子无掩膜曝光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020458866.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-01

授权号：

CN211741831U

授权日：

2020-10-23

发明人：

朱天宇梅文辉杜卫冲

申请人：

中山新诺科技股份有限公司

申请人地址：

广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

代理机构：

北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

石辉

优先权：

CN202020458866.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20