一种双面曝光机掩膜版的对准安装系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种双面曝光机掩膜版的对准安装系统，其特征在于，其包括用于安装上掩膜版的上框系统、用于安装下掩膜版的对准系统、用于升降对准系统的Z轴系统和控制系统；所述的Z轴系统设于对准系统的两侧，上框系统位于对准系统上方；所述的控制系统分别与上框系统、对准系统和Z轴系统连接。本实用新型通过对准单元实现下掩膜版和下掩膜版的对准，能够防止曝光时图案错位，提高曝光质量，通过对准单元能够完成多方向和角度的调整，对准精度高。
基本信息
专利标题 ：
一种双面曝光机掩膜版的对准安装系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921401474.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-27
授权号 ：
CN210428092U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
李明之朱伟杰肖福登
申请人 ：
爱司凯科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市中新广州知识城九佛建设新街18号自编112房
代理机构 ：
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王桂名
优先权 ：
CN201921401474.1
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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