掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法
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摘要
掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法。本发明公开了一种光刻系统对准图形误差补偿方法，包括利用设计制造掩模版制造两片标准片，将两片标准片分别使用同一组晶圆对准图形的第一掩膜版对准图形和第二掩膜版对准图形沿光刻系统Y方向整体偏移第二预设距离后曝光显影；分别测量第一标准片和第二标准片某个重复区域嵌套的第一嵌套图形和第二嵌套图形之间相对偏移误差，获得第一误差和第二误差；将第一误差和第二误差的差值作为掩膜版对准图形的机台补正参数。本发明具有通用性、准确性和便利性，很低的成本下能快速准确的获得光刻系统对准误差误补偿量。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110750038A
申请号 ：
CN201911162936.3
公开（公告）日 ：
2020-02-04
申请日 ：
2019-11-25
授权号 ：
CN110750038B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
严峰王晓龙
申请人 ：
上海华力微电子有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区高斯路568号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
焦天雷
优先权 ：
CN201911162936.3
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-02-28 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20191125
申请日 : 20191125
2020-02-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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