微图文转印用真空层压曝光装置

授权

摘要

本实用新型涉及微图文转印用真空层压曝光装置，其特征在于，包括装置主体和压盖，装置主体包括工作台面、若干组支撑脚、定位部件、压板和若干相互平行的紫外灯，压盖包括压盖主体、硅胶垫，在压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽，第一限位块设有插销孔；工作台面包括长方形滑槽、纵向滚珠丝杠滑道、横向滚珠丝杠安装孔、若干压盖安装座、抽真空孔；定位部件包括滑轨、横向滚珠丝杠、第二限位块、纵向滚珠丝杠滑槽、纵向滚珠丝杠、第一定位组件和第二定位组件；压板设有若干吸附孔。本实用新型不仅解决了光掩模版和薄膜基板快速精准对以及压合过程中由于受力过大而导致光掩模版受损的问题。

基本信息

专利标题：

微图文转印用真空层压曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921378237.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-23

授权号：

CN210348193U

授权日：

2020-04-17

发明人：

冯煜周永南袁顺年

申请人：

江阴通利光电科技有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市江阴市长泾镇长兴路8号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921378237.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20