透镜转印滚轮及透镜转印层
授权
摘要
本实用新型公开一种透镜转印滚轮及透镜转印层。所述透镜转印层包含一透光层以及多个透镜转印区。多个所述透镜转印区由曝光负光阻层而形成于所述透光层，并且所述透镜转印层用以通过多个所述透镜转印区而于一透光膜上转印形成多个透镜。据此，所述透镜转印滚轮及透镜转印层各能通过形成于所述透光层的多个透镜转印区，使得透镜的生产与制造能以转印的方式实现，进而有别于且更有效率于现有透镜制造方法(及其所使用的工具)。
基本信息
专利标题 ：
透镜转印滚轮及透镜转印层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021128727.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-17
授权号 ：
CN212134984U
授权日 ：
2020-12-11
发明人 ：
林刘恭
申请人 ：
光群雷射科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李海霞
优先权 ：
CN202021128727.5
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2020-12-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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