本发明提供了一种可调节狭缝结构及曝光装置，可调节狭缝用于曝光装置，曝光装置包括照明光源和投影物镜；可调节狭缝结构设置于照明光源和投影物镜之间，包括导轨本体、第一调节单元以及至少两个遮光本体；导轨本体与曝光装置连接，每个遮光本体包括至少一个透光狭缝，遮光本体与导轨本体活动连接；第一调节单元与遮光本体连接，第一调节单元被配置为调节遮光本体之间的相对位置，从而控制至少两个可调节狭缝的宽度；可调节狭缝为由其中一个透光狭缝和至少另一个所述遮光本体形成的照明视场。本发明提供的可调节狭缝结构和曝光装置简化了投影物镜的剂量控制流程，多个可调节狭缝的宽度可同时调节，提高了曝光剂量控制的精度。