调节装置及晶圆曝光设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种调节装置及晶圆曝光设备，调节装置，用于晶圆的边缘曝光，调节装置包括：遮光圆盘，遮光圆盘的直径小于晶圆的直径；调节模块，包括环形边缘部，位于遮光圆盘的外围；驱动装置，用于驱动环形边缘部运动，以调节环形边缘部与遮光圆盘的中心的间距。上述调节装置提高了晶圆边缘曝光速度，大大降低了晶圆边缘曝光时间，提高了晶圆边缘曝光效率，从而降低了生产成本。调节装置能调节大小，使得晶圆边缘曝光设备能曝光不同尺寸的晶圆，还能调控晶圆边缘曝光的宽度，扩展了晶圆曝光设备的应用范围。
基本信息
专利标题 ：
调节装置及晶圆曝光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922051978.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-25
授权号 ：
CN211015012U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
温建胜
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
史治法
优先权 ：
CN201922051978.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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